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            光刻機/紫外曝光機 (Mask Aligner)

            描述:光刻機/紫外曝光機 (Mask Aligner)
            光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,紫外曝光機等;ECOPIA為的半導體設備供應商,多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產,并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力;并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用;以

            更新時間:2020-11-01
            訪問次數:1787
            詳情介紹
            品牌其他品牌產地類別進口
            應用領域化工,能源,電子,印刷包裝,電氣

            光刻機/紫外曝光機 (Mask Aligner)

            光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,紫外曝光機等;ECOPIA為的半導體設備供應商,多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產,并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力;并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用;以的技術、*的工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。

            型號:M-150

            技術規格:

            - 掩模尺寸:大7英寸;

            - 樣品尺寸:大6英寸;

            - 卡盤移動:X,Y,Z,Theta軸手動,楔形補償調平;

            - 紫外光源:6.25" X 6.25";

            - 光源功率:350瓦紫外燈;

            - 光源均勻性:<+/-3%;

            - 光源365nm波長強度:大30毫瓦;

            - 顯微鏡:雙顯微鏡系統;

            - 顯微鏡移動:X,Y,Z軸手動調節;

            - 顯微鏡物鏡空間:50-150mm;

            - 標配放大倍率:80X-400X;

            - 顯示器:20" LCD;

            - 曝光時間:0.1-999秒;

            - 接觸模式:真空接觸,硬接觸,軟接觸,接近接觸(距離可調);

            - 對準精度:1um (Vacuum Contact), 1.5um(Hard Contact), 3um(Soft Contact), 5um(Proximity Mode);

            - 電源:220V,單相,15安培;

            主要特點:

            - 光源強度可控;

            - 紫外曝光,深紫外曝光(Option);

            - 系統控制:手動、半自動和全自動控制;

            - 曝光模式:真空接觸模式(接觸力可調),Proximity接近模式, 投影模式;

            - 真空吸盤范圍可調;

            -技術:可雙面對準,可雙面光刻,具有IR和CCD模式

            - 雙CCD顯微鏡系統,大放大1000倍,顯示屏直接調節,比傳統目鏡對準更方便快捷,易于操作。

            - 特殊的基底卡盤可定做;

            - 具有楔形補償功能;

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